基于CH模型的R&D扩散效应分析

包江山; 关峻

doi:10.6049/kjjbydc.2011030887

科技进步与对策 >

2012 , Vol. 29 >Issue 9: 19 - 22

DOI: https://doi.org/10.6049/kjjbydc.2011030887

科技管理创新

基于CH模型的R&D扩散效应分析

包江山 ,
关峻

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北京工业大学经济与管理学院，北京100124

收稿日期: 2011-06-17

网络出版日期: 2012-05-10

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摘要

R＆D扩散是技术创新扩散的基础和前提，科技中心城市的R＆D扩散效应对周边区域技术进步起着尤为重要的作用。阐述了R＆D扩散的系统理论，对影响R＆D扩散能力的评价指标变量进行了定性分析和定量分析。以北京区域为实例，借助扩展的CH模型对R＆D扩散效应进行了实证研究。结果表明，区域内的研发投入R＆D和区域外FDI带来的溢出效应具有滞后性，且FDI的溢出效应一定程度上会抑制区域内的技术创新与扩散。

关键词： R＆D; 技术扩散; CH模型; 技术扩散效应

本文引用格式

包江山 , 关峻 . 基于CH模型的R&D扩散效应分析[J]. 科技进步与对策, 2012 , 29(9) : 19 -22 . DOI: 10.6049/kjjbydc.2011030887

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