基于CH模型的R&D扩散效应分析

包江山;关峻

科技进步与对策 ›› 2012, Vol. 29 ›› Issue (9) : 19-22.

PDF(1359 KB)
PDF(1359 KB)
科技进步与对策 ›› 2012, Vol. 29 ›› Issue (9) : 19-22. DOI: 10.6049/kjjbydc.2011030887
科技管理创新

基于CH模型的R&D扩散效应分析

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +
文章历史 +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

R&D;技术扩散;CH模型;技术扩散效应

Key words

本文二维码

引用本文

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2012, 29(9): 19-22 https://doi.org/10.6049/kjjbydc.2011030887
中图分类号:

参考文献

参考文献

{{article.reference}}

基金


编委:
主编:
责任编辑:
编辑:

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
PDF(1359 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航
相关文章

/