专利家族视角下技术演化路径依赖研究——以光刻技术为例

doi:10.6049/kjjbydc.2021110307

科技进步与对策

2022, Vol. 39

Issue (23): 1-11 DOI: 10.6049/kjjbydc.2021110307

科技管理创新

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专利家族视角下技术演化路径依赖研究——以光刻技术为例

杨武,陈培,Gad David

（北京科技大学经济管理学院，北京 100083）

Path Dependence in Technology Evolution from the Perspective of Patent Families： An Example of Lithography

Yang Wu,Chen Pei,Gad David

(School of Economics and Management, University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083, China)

摘要
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摘要以专利家族为研究视角，阐述技术路径动态演化过程中的路径依赖。专利家族自引会对技术主路径造成干扰，通过对主路径进行调整，提出一种修正技术主路径的新思路。研究发现：光刻技术在“投影对准和曝光系统—浸没式投影物镜—浸没式光刻材料—光刻胶”4个阶段经历了“路径消解—路径产生与路径依赖—路径消解与突破”的动态演化过程。在此过程中，以荷兰阿斯麦、德国蔡司和日本东京电子为代表的专利家族发挥重要作用。其中，以阿斯麦为核心的利益联盟垄断核心技术，强化光刻技术发展的路径依赖作用，占据市场领先地位。研究结论有助于深化对路径依赖理论的认知，通过揭示光刻技术路径演化过程及企业演化格局，为后发国家突破技术路径依赖提供实践启示。

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关键词 ：专利家族, 技术演化, 技术路径依赖, 光刻技术

收稿日期: 2021-11-10 修回日期: 2022-03-09

ZTFLH:

G301

基金资助:国家自然科学基金面上项目（72074019）

作者简介: 杨武（1961—），男，山东临沂人，北京科技大学经济管理学院教授、博士生导师，研究方向为创新创业与企业成长；陈培（1987—），女，内蒙古包头人，北京科技大学经济管理学院博士研究生，研究方向为技术创新；GadDavid（1988—），男，刚果人，北京科技大学经济管理学院博士研究生，研究方向为技术创新、知识管理。本文通讯作者：陈培。

引用本文:

杨武,陈培,Gad David. 专利家族视角下技术演化路径依赖研究——以光刻技术为例[J]. 科技进步与对策, 2022, 39(23): 1-11.
Yang Wu,Chen Pei,Gad David. Path Dependence in Technology Evolution from the Perspective of Patent Families： An Example of Lithography. SCIENCE & TECHNOLOGY PROGRESS AND POLICY, 2022, 39(23): 1-11.

链接本文:

http://www.kjjb.org/CN/10.6049/kjjbydc.2021110307 或 http://www.kjjb.org/CN/Y2022/V39/I23/1

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