外资在华技术创新溢出是否促进内资企业技术进步——基于门槛效应的经验分析

黄烨,刘婷

科技进步与对策 ›› 2021, Vol. 38 ›› Issue (22) : 83-90.

PDF(1203 KB)
PDF(1203 KB)
科技进步与对策 ›› 2021, Vol. 38 ›› Issue (22) : 83-90. DOI: 10.6049/kjjbydc.2020070553
企业创新管理

外资在华技术创新溢出是否促进内资企业技术进步——基于门槛效应的经验分析

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +

Does the Technology Innovation Spillover of Foreign Capital in China Promote the Technological Progress of Domestic Enterprises:Empirical Analysis based on Threshold Effect

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
Author information +
文章历史 +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

技术创新溢出, 技术进步, 外资竞争, 内资模仿同构, 知识产权保护

Key words

Technological Innovation Spillover, Technical Progress, Foreign Capital Competition, Degree Imitating Isomorphism, Intellectual Property Rrotection(IPR)

本文二维码

引用本文

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2021, 38(22): 83-90 https://doi.org/10.6049/kjjbydc.2020070553
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2021, 38(22): 83-90 https://doi.org/10.6049/kjjbydc.2020070553
中图分类号:

参考文献

参考文献

{{article.reference}}

基金


编委:
主编:
责任编辑:
编辑:

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
PDF(1203 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航
相关文章

/